一、核心技术：定义温控精度新基准​

全温域覆盖与精准控制​

产品覆盖 - 120℃~300℃超宽温区，其中低温恒温槽系列（如 BILON-WD 系列）可实现 - 5℃至 180℃控温，深冷型号（BILON-WD-509）更达 - 120℃。依托PID+AI 前馈补偿算法，控温精度稳定在 ±0.1℃，部分场景甚至可达 ±0.01℃，远优于传统设备的波动范围。​

动态响应与高效循环​

采用双循环制冷 + 高效电加热模块，冷热切换时间＜30 秒，升降温速率 1~10℃/min 可调。搭配磁耦合高温循环泵，最大流量达 40L/min，扬程最高 10 米，确保反应釜 / 发酵罐内介质温度均匀，纵向温差≤0.5℃。​​

二、场景适配：从实验室到工业产线​

（一）反应釜控温专属解决方案​

精细化工：在 PA66 缩聚反应中，以 ±0.2℃精度控制温度，将分子量分布指数（PDI）从 2.1 压缩至 1.3，产品抗拉强度提升 25%；硝化反应中，-110℃深冷技术有效抑制副反应发生。​

生物医药：某单位利用 ±0.1℃精度实现抗癌药物中间体低温合成，杂质含量从 5% 降至 0.3%；新冠疫苗研发中，为灭活反应釜提供 ±0.03℃恒温环境。​

新能源材料：锂电池电解液合成中，瞬间响应放热突变，产品纯度达 99.9%；高镍三元正极材料合成中，批次一致性提升至 99.5%。​

（二）发酵罐控温核心优势​

微生物培养适配：通过 “梯度预冷” 技术避免低温介质结晶，-80℃工况下波动≤±0.1℃，保障益生菌、酶制剂等低温发酵稳定性。​

节能与环保：采用高效压缩机与优化热管理系统，能耗较传统设备降低 35%，密闭循环设计避免高温油雾与低温水汽污染，符合发酵行业洁净要求。​​

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