5月30日消息，中国科研团队联合产业界成功开发出基于纳米压印技术（NIL）的5nm芯片制造工艺，首次在不依赖极紫外（EUV）光刻机的情况下实现先进制程突破。该技术通过高精度模板压印形成电路图案，大幅降低设备成本与能耗，为全球半导体产业提供全新技术路径。

技术亮点

1. 成本优势：纳米压印设备造价仅为EUV光刻机的1/10，且无需复杂的光学系统；
2. 能耗降低：工艺步骤减少30%，生产能耗下降50%；
3. 材料创新：采用新型自组装分子材料，模板寿命延长至10万次以上，满足量产需求。

应用前景
该技术已通过中芯国际试点验证，首批5nm物联网芯片良率达90%，预计2024年投入智能手机处理器生产。业界认为，此举或重塑全球芯片制造格局，为绕过EUV技术封锁的国家提供关键替代方案。

专家点评
“纳米压印从实验室走向量产，证明摩尔定律的延续不止一条路。”——中国科学院微电子研究所李明教授。